El patrón de malla arquitectónica DS-8 se basa en el patrón de malla DS-2, pero juega con su capacidad de "anidar" y "oponerse". Al mantener los marcos de las lizos constantes durante 3 hilos consecutivos, se revela un espacio abierto en el patrón de la malla. El resultado es una malla con un porcentaje muy bajo de área abierta que podría prestarse a un material de revestimiento retroiluminado.
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